上海:2021 SEMICON China开幕 展现全球集成电路发展最新趋势

图片ID: 9962220
图片尺寸: 2190*3317
图片大小: 1136.00 KB

上传时间: 2021-03-17 13:08:17
图片说明: 2021年3月17日,参观者在观看上海微电子研发的用于芯片刻蚀的国产光刻机。

总说明:

3月17日,作为全球规模最大、最具影响力的半导体专业展2021 SEMICON China在上海开幕。本届展会以“跨界全球,心芯相联”为主题,通过设立ic制造专区、化合物半导体专区、集成电路材料产业技术创新盟、 micro-led专区和semi中国英才计划专区等五大主题展区全方位展出芯片设计、制造、封测、设备、材料供应商等形成的集成电路全产业链,并以线下和线下相结合的方式集中展现中国半导体产业特点和全球半导体产业发展的最新趋势。

声明:凡带有“人民图片”字样图片,系版权图片,受法律保护,使用(含转载)需付费,欢迎致电购买:010-65363639或021-63519288。